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铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。
显示技术领域:广泛应用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板显示器件中作为透明电极,确保显示设备既能透光显示图像,又能导电传输信号。
精铟是指纯度极高的金属铟,通常纯度在 99.99%(4N)以上,高纯度规格可达 99.9999%(6N)甚至更高.精铟是通过精炼工艺去除铟原料中的杂质(如铅、锌、镉、锡等)后得到的高纯度金属,呈银白色光泽,质地柔软,具有良好的延展性和导电性。
半导体与电子工业(占比约 25%):
焊料与封装:利用铟的低熔点和延展性,作为半导体芯片的焊接材料(如倒装焊、热沉连接),可适应精密器件的高温稳定性需求。
化合物半导体:与镓、砷等元素合成 InGaAs、InP 等化合物,用于 5G 芯片、激光器、探测器(如红外成像器件)。